产品: 面膜对准
卡尔迈耶SUSS的MA - 56对准/曝光

技术简介本系统是手动,半自动或全自动曝光*卡尔SUSS UV - 400曝光光学* 1000W灯箱* CIC - 1000电源供应器*光学控制过滤器(365和405纳米)*卡尔SUSS Splitfield对准光学10X目镜*设置* 4“卡式操作220VAC 50/60 Hz时

技术简介本系统是手动,半自动或全自动曝光*卡尔SUSS UV - 400曝光光学* 1000W灯箱* CIC - 1000电源供应器*光学控制过滤器(365和405纳米)*卡尔SUSS Splitfield对准光学10X目镜*设置* 4“卡式操作220VAC 50/60 Hz时