產品: 面膜對準
卡爾邁耶 SUSS的MA - 56對準 /曝光

技術簡介本系統是手動,半自動或全自動曝光*卡爾SUSS UV - 400曝光光學* 1000W燈箱* CIC - 1000電源供應器*光學控制過濾器(365和405納米)*卡爾SUSS Splitfield對準光學10X目鏡 *設置 * 4“卡式操作220VAC 50/60 Hz時

技術簡介本系統是手動,半自動或全自動曝光*卡爾SUSS UV - 400曝光光學* 1000W燈箱* CIC - 1000電源供應器*光學控制過濾器(365和405納米)*卡爾SUSS Splitfield對準光學10X目鏡 *設置 * 4“卡式操作220VAC 50/60 Hz時